UNO+

- Agite o produto até estar perfeitamente homogeneizado.
- Aplicar sobre substratos limpos e secos, eliminando a sujidade com água e sabão. Em caso de sujidade extrema será conveniente utilizar desengordurantes ou detergentes de limpeza.
- Aplicar seguindo as normas marcadas no quadro de aplicação em anexo.
-Não aplique o produto com temperaturas inferiores a 5º ou em superfícies muito expostas à ação solar.
- Manter as condições de boa ventilação durante o tempo de secagem.
- Não aplique com humidade relativa superior a 80%.
- Para um acabamento perfeito recomenda-se aplicar por pistola de pulverização, e se utilizar rolo, selecione um específico para esmaltes.
- Não lavar até passados 24 dias.
- Limpar as ferramentas com água imediatamente após o uso.
- Ao ar livre nunca aplicar com risco de chuva iminente e evitar dias excessivamente húmidos.
- Para projeção com equipamento Airless, utilizar bicos com passagem de 15 a 23 polegadas, pressão ? 150 bar.

Betão:
1. Esperar até secado total (30 dias mínimo).
2. Limpar o suporte mediante chorro abrasivo.
3. Neutralizar as superfícies alcalinas.
4. Em superfícies polidas, lixar para abrir o poro.
5. Limpar o suporte de produtos estranhos.
6. Fixar os suportes débeis com Emulsión Fijadora ou Fijamont.
7. Massilhar os defeitos do suporte (ver família 6)

Gesso:
1. Esperar até que esteja tudo bem seco (max. 20% de humidade).
2. Limpar os suportes de produtos estranhos.
3. Limpar possíveis eflurescencias com chorro abrasivo.
4. Regular as absorções do suporte com primário, ou uma demão diluída do mesmo produto.
5. Em superfícies polidas: lixar para abrir o poro.
6. Fixar os suportes débeis com Emulsión Fijadora ou Fijamont.
7. Masilhar os defeitos do suporte (ver família 6)

Tabiques PYL:
1. Faça uma lixagem geral das juntas e das áreas de fixação com massa.
2. Em seguida, limpe para garantir que o substrato esteja livre de poeira, gorduras e outros contaminantes.
3. Para aplicação em placas coloridas com tendência a gerar manchas, aplicar Montoplac Selante Antimanchas.